Der englische Begriff dual stress liner (DSL) bezeichnet in der Halbleitertechnik eine Verfahren zur Herstellung von verspanntem Silizium (engl. strained silicon) für p- und n-Kanal-MOSFETs in Silocon-on-Insulator-Technologien. Das von IBM entwickelte Verfahren kommt durch die Technologieaustauschabkommen wird/wurde unter anderem bei AMD/Globalfo...