
Die Trench-Technik („trench“, deutsch Graben) ist ein Halbleiterherstellungsprozess, der insbesondere bei der Herstellung von DRAM Verwendung findet. == Beschreibung == Zentrales Element dieser Technik ist der Graben- bzw. Lochkondensator. Die Trenches werden dabei durch reaktives Ionenätzen in den Siliziumkristall geätzt und anschließend i...
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https://de.wikipedia.org/wiki/Trench-Technik
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