Die Ionenimplantation ist ein Verfahren zur Einbringung von Fremdatomen (in Form von Ionen) in ein Grundmaterial, Dotierung genannt. Auf diese Weise lassen sich die Materialeigenschaften (meistens die elektrischen Eigenschaften) des Grundmaterials verändern. Das Verfahren wird unter anderem in der Halbleitertechnik genutzt. Entsprechende Anlagen ...
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https://de.wikipedia.org/wiki/Ionenimplantation
(ion implanting) Ein Prozess, bei dem mit hoher Energie Ionen gezielt in ein Halbleitersubstrat implantiert bzw. »eingeschossen« werden. S.a. Dotierung.
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https://www.computer-automation.de/lexikon/?s=2&k=I&id=15594&page=1
(ion implanting) Ein Prozess, bei dem mit hoher Energie Ionen gezielt in ein Halbleitersubstrat implantiert bzw. »eingeschossen« werden. S.a. Dotierung.
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https://www.elektroniknet.de/lexikon/?s=2&k=I&id=15594&page=1
Ionenstrahlverfahren, Einbau von hochenergetischen Teilchen (keV bis MeV) durch Beschuß der Substratoberfläche. Insbesondere eingesetzt in der Mikroelektronik zur Dotierung von Halbleitern, aber auch in einigen Fällen zum Verschleißschutz.
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https://www.enzyklo.de/Lokal/42087
Ionenimplantation, Halbleitertechnik: das Einbringen von Fremdatomen in Halbleiterkristalle mit dem Strahl eines Ionenbeschleunigers (Dotierung).
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https://www.enzyklo.de/Lokal/42134
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