Fotolacke ({EnS|photoresist}) werden bei der fotolithografischen Strukturierung verwendet, insbesondere in der Mikroelektronik und der Mikrosystemtechnik für die Produktion von Strukturen im Mikro- und Submikrometerbereich sowie bei der Leiterplattenherstellung. Die wichtigsten Ausgangsstoffe für Fotolacke sind Polymere (z. B. Polymethylmethacry...
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https://de.wikipedia.org/wiki/Fotolack
Fotolack, Fotoresist, Mikrotechnik: Resist.
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https://www.enzyklo.de/Lokal/42134
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