Mithilfe einer Maskierungsschicht ist es möglich, Diffusion, Ionenimplantation, Ätzen oder eine physikalische Gasphasenabscheidung auf eine unter der Maskierung befindlichen Schicht selektiv durchzuführen. Bei letzterer handelt es sich in den meisten Fällen um eine Siliziumscheibe (Wafer), einen Rohling für integrierte Halbleiterschaltungen. ...