Die Elektronenstrahllithografie (ESL, {enS|electron beam lithography} oft als e-beam lithography abgekürzt) ist in der Mikro- und Halbleitertechnik ein spezielles Verfahren zur Strukturierung einer Elektronenstrahl-empfindlichen Schicht (engl. resist, in Analogie zur Fotolithografie auch Fotolack genannt). Sie ist eng verwandt mit der Ionenstrahl...