(CVD) Verfahren zur Abscheidung von Dünnschichten bei der IC-Herstellung, durch chemisches Aufdampfen, für (Opto)Halbleiter. Es gibt diverse Verfahren, etwa aus der Dampfphase, Plasma etc., s.a. MCVD, MOCVD, PCVD, OVPO, PVD.
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https://www.computer-automation.de/lexikon/?s=2&k=C&id=11282&page=1
(CVD) Verfahren zur Abscheidung von Dnnschichten bei der IC-Herstellung, durch chemisches Aufdampfen, für (Opto)Halbleiter. Es gibt diverse Verfahren, etwa aus der Dampfphase, Plasma etc., s.a. MCVD, MOCVD, PCVD, OVPO, PVD.
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