
Hexamethyldisilazan, kurz HMDS, Summenformel C6H19NSi2, wird vielfach zur Oberflächenmodifikation von Festkörperoberflächen verwendet, so z. B. zur Hydrophobierung von Kieselsäurepartikeln oder zur Verbesserung der Haftung von Photolacken auf Halbleiteroberflächen. In der Halbleiterindustrie erlaubt die Methode der chemischen Gasphasenabschei...
Gefunden auf
https://de.wikipedia.org/wiki/Hexamethyldisilazan
Keine exakte Übereinkunft gefunden.